高纯金靶材

    溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一，溅射沉积薄膜的源材料即为靶材，材料成分含有贵金属元素的靶材统称为贵金属靶材。高纯度贵金属靶材是一种具有高附加价值的特种电子材料，在信息存储产业、微电子产业、新能源产业等技术领域获得了广泛的应用。我们通过真空熔炼技术在控制杂质成分上攻关，使产品纯度高达99.999%，成分优于国标GB/T26311-2009要求。